Китайский стартап Prinano предложил обходиться без литографических машин ASML, сообщает «Хабр». Вместо лазеров и сложной оптики — наноимпринт: кварцевая матрица физически вдавливает рельеф в 8-дюймовую пластину, как сургучную печать. Метод выдаёт линии тоньше 10 нм.
Ключевой элемент — вакуумная подушка. Она распределяет прижим так, что перекосы остаются в пределах 0,5%. За один проход матрица впечатывает волноводы, а стоимость производства, по данным источника, падает в 10 раз.
Для топовых CPU прямой контакт матрицы с резистом — рискованный путь: пылинка способна убить кристалл. Зато для фотоники и лидаров подход уже сейчас снимает зависимость от западного оборудования. Как удалось победить остаточный слой и почему кривая подложка больше не мешает штамповке микросхем, источник обещает рассказать отдельно.
Контекст: рынок литографии держится на DUV- и EUV-машинах, а экспортные ограничения делают их недоступными для китайских производителей. Наноимпринт — попытка обойти это узкое место, пусть и не для самых требовательных чипов.
Источник: Telegram: Хабр
Комментарии 6